紫外臭氧清洗機的實用技術及在生產中的應用范圍
更新時間:2024-02-29 點擊次數:1371
隨著光電子信息產業(yè)的發(fā)展,紫外線表面清潔技術在上被提出。1970年代中期,美國電子技術和設備實驗室使用紫外線清潔石英晶片,并取得了令人滿意的結果。但是,在美國,紫外臭氧清洗機技術長期以來一直主要用于領域的研究中。直到1990年代初,日本和美國先后將UV光清洗機應用于民用光電產品的工業(yè)生產過程中,并在需要技術保密的情況下,開始向中國的外資LCD公司提供UV光清洗機。
隨后,在日本開發(fā)紫外線表面清潔技術的同時,還開發(fā)了紫外線表面改性技術。二十世紀末,日本的先進工業(yè)國家如紫外線表面清潔和升級技術逐漸從信息產業(yè)擴展到金屬,塑料,橡膠等工業(yè)生產過程。在1990年代后期,中國的信息技術和產業(yè)以驚人的速度迅速發(fā)展,特別是平板顯示技術的迅速發(fā)展。LCD屏幕從TN級別持續(xù)提高到STN和TFT。新型OLED顯示產品也開始進入市場。結果,制備過程的表面質量要求變得越來越嚴格,紫外線表面清潔技術的*性已得到廣泛認可,并且對紫外臭氧清洗機的需求也在不斷增加。
1.在LCD和OLED的生產中,在施加光致抗蝕劑,PI膠,取向膜,鉻膜和彩色膜之前先用紫外臭氧清洗機進行光清潔,可以大大提高基板表面的潤濕性并增強基板表面的附著力;
2.大型集成電路的密度越來越高,晶格越來越密,并且要求表面的清潔度越來越高。輕度清潔可以有效地實現表面原子清潔度,并且不影響芯片表面。會造成損壞。
3.在印刷電路板的生產中,紫外臭氧清洗機對銅基板和印刷基板進行光學清洗和改性,并在焊絲焊接之前進行光學清洗,這樣可以增加熔焊的接觸面積并大大提高增加連接強度。特別是對于高精度印刷電路板,當線間距達到亞微米水平時,光清洗可以輕松地去除線間距之間的非常小的顆粒,這可以大大提高印刷電路板的質量。
紫外燈類型 | 低壓石英水銀蒸汽燈 |
紫外線燈的主要波長 | 185nm和254nm |
UV燈管尺寸 | 100x100mm |
UV燈電源 | 4000V,30mA |
UV燈壽命 | 每天使用可用8-10年 |
適用電壓 | 230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz) |
大運行時間 | 59分59秒 |
安全 | 安全聯鎖,高溫報警,高溫斷電。 |
托盤尺寸 | 120x120mm |
大樣品尺寸 | 100x100mm |
總尺寸 | 長204mm、高227mm、寬300mm |